介孔二氧化鈰的制備方法多樣，主要包括模板輔助法、溶膠-凝膠法、化學沉淀法、高壓溶劑熱法等，以下是對這些方法的詳細介紹：

模板輔助法

• 硬模板法：以KIT-6、介孔SiO?等為模板，通過納米鑄造技術復制孔道結構。例如，以KIT-6為模板制備的CeO?/KIT-6復合物，經NaOH刻蝕后得到介孔CeO?光催化劑。這種方法能制備出結構有序的介孔二氧化鈰，但模板去除過程可能較為復雜。

• 軟模板法：以CTAB、嵌段共聚物等為表面活性劑，通過自組裝形成介孔結構。例如，以CTAB為結構導向劑，通過水熱合成獲得介孔CeO?，但熱穩定性需進一步優化。

溶膠-凝膠法

將鈰鹽（如Ce(NO?)?）與檸檬酸等螯合劑混合，形成溶膠后經干燥、焙燒得到介孔CeO?。這種方法操作簡單，但需控制焙燒溫度以避免孔道坍塌。溶膠-凝膠法可以制備出高比表面積的介孔二氧化鈰，但制備過程中需要精確控制條件。

化學沉淀法

采用可溶性鈰鹽作為鈰源，加入表面活性劑，倒入沉淀劑溶液進行化學反應生成前驅體，經過濾、洗滌、干燥和焙燒得到介孔二氧化鈰。例如，以六水合硝酸鈰為鈰源，加入嵌段共聚物作為模板，通過化學沉淀法制備出介孔納米二氧化鈰，該材料具有高活性、高分散性、三價鈰含量高、尺寸均勻和比表面積大等優點。

高壓溶劑熱法

將六水合硝酸鈰溶于去離子水中，加入丙酸和乙二醇，在熱壓反應釜中恒溫反應并施加一定壓力，利用壓力差強制溶劑擴散制備介孔空心球。

其他方法

• 還原氣氛調控：在H?/Ar或CO氣氛中熱處理，部分Ce??還原為Ce3?，控制氣氛比例和溫度（300–600°C）可調節還原度。這種方法能制備出具有特定氧化還原性能的介孔二氧化鈰。

• 使用還原劑：通過NaBH?、乙醇胺等還原劑，在常溫或溫和條件下部分還原氧化鈰。這種方法操作簡便，但還原程度可能較難控制。

• 配體控制：通過乙酰丙酮、檸檬酸等配體控制Ce3?絡合，合成時促進缺陷位點與Ce3?穩定存在。這種方法能制備出具有特定表面性質的介孔二氧化鈰。

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